氣相沉積是通過氣相中發(fā)生的物理、化學(xué)過程，改變表面成分，在工件表面形成功能性（例如超硬耐磨層或具有特殊的光學(xué)、電學(xué)性能）或裝飾性的化合物涂層的新技術(shù)。氣相沉積通常是在工件表面覆蓋厚為0.5~10um的一層過渡族元素（鈦、釩、鉻、鋯、鎢、鉬、鉭、鈮及鉿）與碳、氮、氧和硼的化合物。按過程的主要屬性可將氣相沉積分為化學(xué)氣相沉積（CVD）和物理氣相沉積（PVD）兩大類。氣相沉積是模具表面強(qiáng)化的新技術(shù)之一，已廣泛應(yīng)用于各類模具的表面硬化處理，主要應(yīng)用的沉積層為TiC、TiN、Ti、（C，N）。
用CVD技術(shù)可以在各種工模具材料上沉積TiC、TiN、Ti、（C，N）薄膜。
